彩膜基板及其制作方法、显示装置

摘要

本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述不透光部包括第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于不透光部其他部分的厚度；在衬底基板的第二表面形成黑矩阵材料层；从形成有掩膜图形的一侧对黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；进行第一次灰化，以将第一不透光子部去除，不透光部的其他部分保留一部分；在衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；从形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。相应地，本发明还提供一种彩膜基板和一种显示装置。本发明能够减少掩膜板的使用数量，降低生产成本。

主权项

一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括多种不同颜色的子像素区，其特征在于，所述制作方法包括：在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述镂空部的位置与待形成黑矩阵的位置相对应，所述不透光部包括与所述彩膜基板的第一颜色子像素区对应的第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于所述不透光部的其他部分的厚度；在所述衬底基板的与第一表面相对的第二表面形成黑矩阵材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；对所述不透光部进行第一次灰化，以将所述第一不透光子部去除，所述不透光部的其他部分保留一部分；在所述衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。