| 发明名称 | 图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、用于制造电子器件的方法，以及电子器件 | ||
| 摘要 | 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。 | ||
| 申请公布号 | CN103582847B | 申请公布日期 | 2016.03.16 |
| 申请号 | CN201280026472.3 | 申请日期 | 2012.05.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;齐藤翔一;吉野文博 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I;C08F220/12(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 贺卫国 |
| 主权项 | 一种图案形成方法，所述方法包括：(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂，(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元，由下式(I)表示的重复单元的含量少于20摩尔％，并且树脂(A)含除由下式(I)表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元：<img file="FDA0000811463410000011.GIF" wi="689" he="599" />在式(I)中，Xa表示氢原子或烷基，并且Rx表示氢原子或能够通过酸的作用分解并离去的基团，并且基于所述显影液的总量，所述含有机溶剂的显影液中有机溶剂的含量为90至100质量％。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||