发明名称 对于零偏移具有降低的补偿角的二轴磁场传感器
摘要 提供用于形成参考层的传感器和制造工艺,该参考层具有基本上正交的磁化方向,该磁化方向具有小补偿角的零偏移。一个示例性实施例包括基于磁阻薄膜的磁场传感器的传感器层堆叠,该传感器层堆叠包括:钉扎层;被钉扎层包括:在钉扎层之上的非晶材料的层,以及在非晶材料的层之上的晶体材料的第一层;在被钉扎层之上的非磁性耦合层;在非磁性耦合层之上的第一层;在固定层之上的隧道势垒;以及,在非磁中间层之上的感测层。另一个实施例包括传感器层堆叠,其中,被钉扎层包括由非晶层分开的两个晶体层。
申请公布号 CN103081008B 申请公布日期 2016.03.16
申请号 CN201180042042.6 申请日期 2011.08.09
申请人 艾沃思宾技术公司 发明人 孙吉军;P·马瑟;S·皮塔姆巴拉姆;J·斯劳特;R·韦格;N·里佐
分类号 G11B5/33(2006.01)I 主分类号 G11B5/33(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 金晓
主权项 一种磁阻薄膜磁场传感器,包括:抗铁磁性钉扎层;被钉扎层,包括:在抗铁磁性钉扎层之上具有在2到15埃范围厚度的非晶铁磁层;以及在非晶铁磁层之上的第一晶体铁磁层;在被钉扎层之上的非磁性耦合层;在非磁性耦合层之上的铁磁性固定层;在铁磁性固定层之上的电介质隧道势垒层;以及在电介质隧道势垒层之上的铁磁性感测层。
地址 美国亚利桑那