发明名称 |
半导体多项目或多产品晶片制造工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体多项目或多产品MP晶片制造工艺。半导体多项目或多产品MP晶片制造工艺包括对多个MP晶片进行第一制造工艺步骤;将MP晶片分批为MP晶片群组-1和MP晶片群组-2;对MP晶片群组-1进行第二制造工艺步骤-1,且对MP晶片群组-2进行第二制造工艺步骤-2,分别于MP晶片群组-1和MP晶片群组-2形成大体上不同的半导体装置或制造工艺组件,且第二制造工艺步骤-1和第二制造工艺步骤-2属于相同的制造工艺世代。对MP晶片群组-1进行第三制造工艺步骤-3,对MP晶片群组-2进行第三制造工艺步骤-4,分别于MP晶片群组-1和MP晶片群组-2上形成大体上相同的半导体装置或制造工艺组件。本发明具有较低的原型产品一次性工程费用。 |
申请公布号 |
CN105404091A |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
CN201510816439.6 |
申请日期 |
2011.10.08 |
申请人 |
甘万达 |
发明人 |
甘万达 |
分类号 |
G03F1/50(2012.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L25/065(2006.01)I;H01L25/18(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/50(2012.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种半导体多项目或多产品MP晶片制造工艺,包括下列步骤:使用一屏蔽,对一MP晶片进行一光刻制造工艺;进行完成该光刻制造工艺之后,对该MP晶片进行包括一蚀刻制造工艺、一沉积制造工艺或一离子注入制造工艺的一第一制造工艺;对该MP晶片进行一离子束无屏蔽光刻制造工艺;进行该离子束无屏蔽光刻制造工艺之后,对该MP晶片进行包括一蚀刻制造工艺、一沉积制造工艺或一离子注入制造工艺的一第二制造工艺;以及对该MP晶片进行一接续制造工艺,以制造一最终MP晶片。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |