一种半导体处理系统中的流体脱泡装置和方法

摘要

本发明属于半导体处理系统中对流体处理的技术领域，具体地说是一种半导体处理系统中的流体脱泡装置，包括：缓冲容器、介质容器、超声波换能器、换能器控制部、总控制部；所述缓冲容器浸入介质容器的介质中，超声波换能器安装于介质容器外壁，并与换能器控制部连接；换能器控制部与总控制部连接；其方法包括：总控制部根据各检测器的反馈信息控制超声波换能器和各自动阀使缓冲容器内的流体完成脱泡处理。本发明可以不占用单独时间进行流体的脱泡，并且工作时缓冲容器内压力恒定，保证出液口的流量恒定，液体供给、气体排放均为自动控制，本发明效率高、稳定性好、控制方便。

主权项

一种半导体处理系统中的流体脱泡装置，其特征在于包括：缓冲容器(6)、介质容器(7)、超声波换能器(14)、换能器控制部(13)、总控制部(12)；所述缓冲容器(6)浸入介质容器(7)的介质中，超声波换能器(14)安装于介质容器(7)外壁，并与换能器控制部(13)连接；换能器控制部(13)与总控制部(12)连接；所述缓冲容器(6)为中空结构，顶部盖有密封盖I(16)，所述密封盖I(16)的内壁为斜面；所述缓冲容器(6)的底部设有密封盖Ⅱ(17)，所述密封盖Ⅱ(17)的内壁为凹面；所述密封盖I(16)中间设有进液口，密封盖I(16)内壁斜面的顶端设有排气口，密封盖Ⅱ(17)中间设有出液口；进液口通过自动阀I(2)与供液装置(1)相连，出液口通过自动阀Ⅲ(10)与终端连接，排气口通过自动阀Ⅱ(4)与排气系统相连；所述总控制部(12)分别通过控制部I(3)、控制部Ⅱ(5)、控制部Ⅲ(9)与自动阀I(2)、自动阀Ⅱ(4)、自动阀Ⅲ(10)连接。