发明名称 |
研磨用组成物 |
摘要 |
明提供一种研磨具有含铜之层与含钴之层之研磨对象物时,可一方面对含铜之层展现高的研磨速度一方面抑制含钴之层之溶解之研磨用组成物。
|
申请公布号 |
TW201610046 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
TW104122154 |
申请日期 |
2015.07.08 |
申请人 |
福吉米股份有限公司 |
发明人 |
大西正悟;梅田刚宏 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01) |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种研磨用组成物,其系研磨具有含铜之层与含钴之层之研磨对象物之用途中使用之研磨用组成物,且含有氧化剂、与由具有含氮5员环构造之化合物及具有2个以上羧基之胺基羧酸所组成之群选出之至少一种之钴溶解抑制剂。
|
地址 |
日本 |