一种干法刻蚀设备

摘要

本发明公开了一种干法刻蚀设备，可以适用于对不同尺寸的基板进行固定和刻蚀，降低等离子体直接接触下部电极的概率，减少异常放电现象的发生，本发明提供的干法刻蚀设备包括：相对设置的上部电极和下部电极，上部电极包括多个间隔分布的喷淋头，下部电极包括多个大小不同的子下部电极，多个子下部电极同心设置且由小到大依次套嵌；干法刻蚀设备还包括：分别驱动一个子下部电极移动以调整其驱动的子下部电极与上部电极之间间距的第一驱动装置，第一驱动装置与子下部电极传动连接。

主权项

一种干法刻蚀设备，包括：相对设置的上部电极和下部电极，所述上部电极包括多个间隔分布的喷淋头，其特征在于，所述下部电极包括多个大小不同的子下部电极，所述多个子下部电极同心设置且由小到大依次套嵌；所述干法刻蚀设备还包括：分别驱动一个子下部电极移动以调整其驱动的子下部电极与所述上部电极之间间距的第一驱动装置，所述第一驱动装置与其驱动的子下部电极传动连接；所述上部电极包括与多个子下部电极一一对应的子上部电极，且每一个子上部电极包括至少一个喷淋头，每一个子上部电极均设有一个控制其上设有的喷淋头开和关的开关阀。