发明名称 |
一种悬浮抛光加工间隙检测方法 |
摘要 |
本发明公开了一种悬浮抛光加工间隙检测方法,所采用的液动压抛光设备包括抛光盘,抛光液容器、抛光液容器固定板、测距传感器、螺旋机构、微调机构;通过调节微调机构将抛光盘与抛光液容器的中心位置对准,再调节螺旋机构,实现抛光盘和抛光液容器在Z轴方向的相对运动,从而调整悬浮抛光的加工间隙;再利用抛光液底部安装的测距传感器检测抛光液容器的移动距离,计算出抛光盘与抛光液容器之间的加工间隙。本发明能够准确的检测出加工间隙,并能实时的检测出由于液动压力的产生而使加工间隙发生的变化值,能够实现微米级的测量精度;本发明采用的电涡流式位移传感器具有高精度的位移测量精度,能适应复杂测试环境都,保证实验的精确性。 |
申请公布号 |
CN105397639A |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
CN201510908897.2 |
申请日期 |
2015.12.09 |
申请人 |
浙江工业大学 |
发明人 |
洪滔;王杨渝;谢重;朱胜伟 |
分类号 |
B24B49/16(2006.01)I;B24B49/00(2012.01)I;B24B49/10(2006.01)I |
主分类号 |
B24B49/16(2006.01)I |
代理机构 |
杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 |
代理人 |
吴秉中 |
主权项 |
一种悬浮抛光加工间隙检测方法,其特征在于:所采用的液动压抛光设备包括抛光盘,抛光液容器、抛光液容器固定板、测距传感器、螺旋机构、X轴向微调机构和Y轴向微调机构,抛光盘通过联轴器连接私服电机,伺服电机固定在托板上,托板连接X轴向微调机构和Y轴向微调结构且能分别在二者的作用下进行X轴向和Y轴向微调;抛光液容器设在在抛光盘正下方且固定在抛光液容器固定板上,抛光液容器固定板下方设有用于对抛光液容器固定板进行高度调节的螺旋机构,抛光液容器底部设有测距传感器;通过调节X轴向微调机构和Y轴向微调机构将抛光盘与抛光液容器的中心位置对准,再调节抛光液容器底部的螺旋机构,实现抛光盘和抛光液容器在Z轴方向的相对运动,从而调整悬浮抛光的加工间隙;再利用抛光液底部安装的测距传感器检测抛光液容器的移动距离,根据抛光液容器移动的距离计算出抛光盘与抛光液容器之间的加工间隙。 |
地址 |
310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 |