掩模板、显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置

摘要

本发明提供一种掩模板、显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置。所述掩模板包括透明基板和形成在透明基板上的掩模图案；掩模图案的边缘为渐变透光区，沿远离边缘的方向，渐变透光区的透光率逐步减小；渐变透光区内侧为不透光区和/或半透光区。上述掩模板的掩模图案的边缘具有渐变透光区，在进行曝光工艺时，根据所述渐变透光区的透光率的梯度渐变，使根据所述掩模板进行光刻工艺所形成的图形的边缘呈梯度渐变，这样在制备彩膜基板等的过程中，可以减小各层图形相接重叠处的高度，改善彩膜基板等的平整度；在彩膜基板等的平整度满足要求时，就无需制备单独的平坦化层，与现有技术相比，就减少了一道工序，从而可以降低成本，并提高生产效率。

主权项

一种掩模板，其特征在于，包括透明基板和形成在透明基板上的掩模图案；所述掩模图案的边缘为渐变透光区，沿远离边缘的方向，所述渐变透光区的透光率逐步减小；所述渐变透光区内侧为不透光区和/或半透光区。