发明名称 |
紫外光偏振元件的结构及其制程方法 |
摘要 |
紫外光偏振元件的结构及其制程方法,于透光平板基底的表面镀制多层薄膜结构组,多层薄膜结构组为堆叠N次低折射率薄膜层以及高折射率薄膜层所制成,紫外光藉由紫外光偏振元件偏振为二个偏振光,且二个偏振光的偏振比大于10,藉此可以达成提供小体积光学元件且高入射角紫外光偏振的技术功效。 |
申请公布号 |
TW201610482 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
TW103131275 |
申请日期 |
2014.09.11 |
申请人 |
财团法人国家实验研究院 |
发明人 |
邱柏凯 CHIU, PO;曾智皓 ZENG, CHIH;蒋东尧 CHIANG, DON;陈建宇 CHEN, CHIEN;萧健男 HSIAO, CHIEN;陈峰志 CHEN, FONG |
分类号 |
G02B5/30(2006.01);G02B27/28(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林鼎钧 |
主权项 |
一种紫外光偏振元件的结构,其包含: 一透光平板基底;及 一多层薄膜结构组,所述多层薄膜结构组镀制于所述透光平板基底的表面,所述多层薄膜结构组由堆叠N次一低折射率薄膜层以及一高折射率薄膜层所制成,所述高折射率薄膜层与所述低折射率薄膜层的折射率差值大于0.1,且N为正整数; 其中,当入射角范围介于55度至85度且紫外光入射所述紫外光偏振元件后,将紫外光偏振为二个偏振光,且二个偏振光的偏振比大于10。 |
地址 |
台北市和平东路二段106号3楼 |