| 摘要 |
발산각이 매우 작은 X선을 회전체 미러의 전체 면에 조사하면서, 전체 플럭스를 집광하는 것이 가능한 새로운 X선 집광시스템의 광학설계방법을 제공한다. X선 집광시스템의 집광점이 되는 초점(F)을 하류측에 구비하고, 상류측의 초점(F1)을 광축(OA)으로부터 벗어난 위치에 설정한 타원 또는 타원과 쌍곡선을 조합시킨 일부로 이루어지는 1차원 프로필을, 광축(OA)을 중심으로 하여 1회전시켜서 형성되는 반사면을 구비한 회전체 미러(3)의 형상을 결정하는 스텝과, 상류측의 초점(F1)의 궤적이 만드는 집광링(R)을 통과하고, 집광점으로부터 X선원(O)으로 역광선 추적을 하여 광로길이가 일정한 구속조건하에서, X선원(O)으로부터 조사된 X선빔(5)을 반사하여 넓혀서 집광링(R)에 집광하는 기능을 갖춘 링집광 미러(4)의 반사면의 형상을, 역광선 추적의 광선의 굴곡점의 좌표(P)의 집합으로서 결정하는 스텝으로 이루어진다. |
