发明名称 Cleaning device for silicon wafer reuse and method
摘要 본 발명은 재사용 실리콘 웨이퍼의 세정장치 및 그의 세정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 실리콘 웨이퍼의 일면에 도포 되어 있는 실리콘 접착제를 고압액체를 이용하여 세정하는 재사용 실리콘 웨이퍼의 세정장치 및 그의 세정방법에 관한 것이다. 이를 위해 재사용 실리콘 웨이퍼에 분사된 액체를 회수하여 저장하고, 액체를 압축하여 고압액체로 변환하는 저장생성부, 저장생성부로부터 고압액체를 공급받아 밀착테이블에 장착되는 재사용 실리콘 웨이퍼의 일면에 도포된 충격 흡수층이 박피되도록 충격 흡수층의 두께에 따라 고압액체의 분사세기를 제어하여 분사하는 분사로봇부 및 밀착테이블의 하단에 배치되어 재사용 실리콘 웨이퍼에 분사된 고압액체와 박피된 충격 흡수층을 수집하여 필터링한 후 액체회수저장부에 필터링된 액체를 공급하는 재활용부를 포함하는 재사용 실리콘 웨이퍼의 세정장치가 개시된다.
申请公布号 KR101601802(B1) 申请公布日期 2016.03.16
申请号 KR20140109427 申请日期 2014.08.22
申请人 (주)시스윈일렉트로닉스 发明人 유완옥;신용균
分类号 H01L21/02;H01L21/302 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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