发明名称 |
GaN基LED外延结构 |
摘要 |
本实用新型提供一种GaN基LED外延结构,该LED外延结构从下向上依次包括:衬底,N型GaN层,MQW有源层,P型AlGaN层,P型GaN层。其中,N型GaN层包括依次排布的第一GaN层、高掺杂N型GaN层和第二GaN层,第一GaN层和第二GaN层分别由若干非掺杂层和掺杂层交替排列组成,且高掺杂N型GaN层掺杂浓度不小于所述掺杂层。本实用新型采用渐变的N型GaN层结构,能减少位错密度,有利电流扩展,提高材料的抗静电能力,同时对低电流密度的LED芯片有利于提高亮度;另一方面,此结构可以提高电子浓度,从而提高电子迁移率,降低发光电压,LED芯片电压比正常电压低3%-5%,提高了抗静电能力。 |
申请公布号 |
CN205092260U |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
CN201520933121.1 |
申请日期 |
2015.11.20 |
申请人 |
聚灿光电科技股份有限公司 |
发明人 |
刘恒山;刘慰华;冯猛;陈伟;陈立人 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种GaN基LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构从下向上依次包括:衬底,N型GaN层,MQW有源层,P型AlGaN层,P型GaN层;所述N型GaN层包括依次排布的第一GaN层、高掺杂N型GaN层和第二GaN层;所述第一GaN层和第二GaN层分别由若干非掺杂层和掺杂层交替排列组成,且所述高掺杂N型GaN层掺杂浓度不小于所述掺杂层。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区新庆路8号 |