发明名称 萤光X射线分析装置及其测量位置调整方法
摘要 明有关萤光X射线分析装置以及其测量位置调整方法。在萤光X射线分析装置以及其测量位置调整方法中,防止引导的光映入到决定样品的测量位置时的观察视野内。具备:样品台(2),能够设置样品(S);样品移动机构(3),能够移动样品台;X射线源(4),对样品照射一次X射线(X1);检测器(5),检测从被照射一次X射线的样品产生的萤光X射线(X2);拍摄部(6),对包括样品台上的样品的一定的视野区域进行拍摄;显示器部,显示由拍摄部拍摄的视野区域;以及指示器照射部(8),向未映入到在显示器部中显示的视觉辨认区域的范围即样品台上的视野区域的附近照射可见光(L)。
申请公布号 TW201610423 申请公布日期 2016.03.16
申请号 TW104118132 申请日期 2015.06.04
申请人 日立高新技术科学股份有限公司 发明人 八木勇夫
分类号 G01N23/223(2006.01) 主分类号 G01N23/223(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种萤光X射线分析装置,其特征在于,具备:样品台,能设置样品;X射线源,对前述样品照射一次X射线;检测器,检测从被照射前述一次X射线的前述样品产生的萤光X射线;拍摄部,对前述样品台的一定的视野区域进行拍摄;显示器部,显示由前述拍摄部拍摄的前述视野区域;以及指示器照射部,向未映入到在前述显示器部中显示的前述视觉辨认区域的范围即前述样品台的前述视野区域的附近照射可见光。
地址 日本