| 发明名称 |
研磨用组合物 |
| 摘要 |
明系一种对具备氧化膜及氮化膜之研磨对象物进行研磨之研磨用组合物，且pH值为2.0以上，且包含显示正ζ电位之二氧化矽。
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| 申请公布号 |
TW201610129 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104129558 |
申请日期 |
2015.09.07 |
| 申请人 |
霓塔哈斯股份有限公司 |
发明人 |
吉田亨平;太田庆治;细川公一郎 |
| 分类号 |
C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种研磨用组合物，其系对具备氧化膜及氮化膜之研磨对象物进行研磨者，且pH值为2.0以上，且包含显示正ζ电位之二氧化矽。
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| 地址 |
日本 |
