COMPOSITION FOR IMPRINTS PATTERN AND PATTERNING METHOD

摘要

중합성 모노머, 광중합 개시제 및 불소 원자 또는 규소 원자 중 적어도 하나를 가진 관능기와 중합성 관능기를 갖는 폴리머를 포함하는 임프린트용 조성물은 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 몰드 오염의 문제가 없는 패턴성 및 몰드 박리성이 우수하고, 여기서, 상기 폴리머는 적어도 2000의 중량평균 분자량을 갖고, 상기 폴리머의 양은 상기 중합성 모노머에 대하여 0.01∼20질량%이다.