| 摘要 |
본 발명의 플라즈마 처리장치의 기판 재치대는, 기판(W)의 상부면을 노출시키는 복수의 개구부가 형성되며, 각각 기판 상부면의 가장자리 부분과 중첩되는 내주면 상단의 제1 걸림턱(120) 및 상기 제1 걸림턱 아래에서 소정의 높이 차를 두고 확장되는 제2 걸림턱(130)을 가지는 복수의 기판 수납틀(110)을 구비하며, 가장자리 둘레부(140)가 아래방향으로 연장되는 상판(100); 가장자리 부분이 상기 제2 걸림턱에 대향하도록 상기 기판의 직경보다 크게 형성되며, 냉각가스를 기판(W)의 밑면으로 공급할 수 있는 하나 이상의 냉각가스공급홀(215)이 구비된 복수의 융기부(210)를 구비하며, 상기 복수의 융기부(210) 이외의 부위에 하나 이상의 제1 개구부(220, 230)가 형성되며, 상기 상판(100)의 가장자리 둘레부(140)의 내측으로 삽입되어 체결수단에 의해 상기 상판(100)의 밑면에 고정되는 하판(200)을 포함하며, 상기 하판(200)의 복수의 융기부(210)의 각각의 상면의 가장자리를 따라 립씰(283)이 설치되며, 상기 립씰의 내측의 제1 씰링립(283a)은 상기 기판(W)의 밑면에 접촉되고 외측의 제2 씰링립(283b)은 상기 상판의 기판 수납틀(110)의 제2 걸림턱(130)에 접촉된다. |
