PROCESS CHAMBER GAS FLOW IMPROVEMENTS

摘要

본 발명의 실시예들은 일반적으로 플라즈마 에칭 프로세스 챔버 개선들을 제공한다. 챔버의 리드의 중앙 위치에서의 이용을 위해서, 개선된 가스 주입 노즐이 제공된다. 가스 주입 노즐은 기존 플라즈마 에칭 챔버 내에서 이용될 수 있고 그리고 챔버 내에 위치된 기판의 표면에 걸쳐 일련의 원뿔형 가스 유동들을 제공하도록 구성된다. 일 실시예에서, 플라즈마 에칭 챔버에서 이용하기 위한 개선된 배기 키트가 제공된다. 배기 키트는, 기존 플라즈마 에칭 챔버 내에서 이용될 수 있는 장치를 포함하며, 그리고 챔버의 프로세싱 영역으로부터 배기 가스들의 환형 유동을 제공하도록 구성된다.