| 发明名称 |
光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其中，基材成份(A)为，含有具通式(a5-1)所表示之结构单位(a5)之高分子化合物(A1)。
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| 申请公布号 |
TWI525391 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW100144220 |
申请日期 |
2011.12.01 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
新井雅俊;土屋纯一;盐野大寿;平野智之;高木大地 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F220/34(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，其为含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有具有下述通式(a5-1)所表示之结构单位(a5)的高分子化合物(A1)，
〔式中，R为氢原子、碳数1~5之烷基，或碳数1~5之卤化烷基，X为单键或2价之键结基，W为任意之位置可含有氧原子之环状之伸烷基；Ra及Rb为氢原子，p表示1~3之整数〕。
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| 地址 |
日本 |
