| 发明名称 |
感光化射线性或感放射线性树脂组合物及使用其的光阻膜及图案形成方法 |
| 摘要 |
感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含(P)具有由下式(1)表示之重复单元之树脂；一种使用所述组合物之光阻膜；以及一种图案形成方法。 |
| 申请公布号 |
TWI525393 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW100103457 |
申请日期 |
2011.01.28 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
稻崎毅;伊藤孝之;土村智孝;八尾忠辉;高桥孝太郎 |
| 分类号 |
G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/312(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 |
| 主权项 |
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，包含(P)树脂，所述(P)树脂具有由下式(1)表示之重复单元：
其中R1至R3各自独立地表示氢原子或单价取代基，L1表示伸芳基，M1表示伸烷基、伸环烷基、伸烯基、-O-、-S-或包含两个或两个以上这些成员之组合之基团，且M1为不能在酸的作用下分解的基团，X表示含有多个芳族环之基团，且所述多个芳族环经缩合而形成多环结构或经由单键而相互连接。
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| 地址 |
日本 |
