发明名称 |
硬化物膜之制造方法、电子零件之制造方法及电子零件 |
摘要 |
明提供一种可提高微细之硬化物膜之形成精度、且可提高硬化物膜之密接性之硬化物膜之制造方法。
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申请公布号 |
TWI525135 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
申请号 |
TW103138591 |
申请日期 |
2014.11.06 |
申请人 |
积水化学工业股份有限公司 |
发明人 |
谷川满;渡边贵志;上田伦久;中村秀;前中宽;高桥良辅;井上孝德;藤田义人;乾靖 |
分类号 |
C08J3/28(2006.01);H05K3/28(2006.01) |
主分类号 |
C08J3/28(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种硬化物膜之制造方法,其具备:涂布步骤,其使用喷墨装置涂布具有光硬化性及热硬化性且为液状之硬化性组合物;第1光照射步骤,其于上述涂布步骤后,自第1光照射部对上述硬化性组合物照射光,使上述硬化性组合物进行硬化,形成预硬化物膜;及加热步骤,其于上述第1光照射步骤后,将照射光而成之上述预硬化物膜加热,使照射光而成之上述预硬化物膜硬化,形成硬化物膜;其中上述硬化性组合物含有光硬化性化合物、热硬化性化合物、光聚合起始剂及热硬化剂;上述喷墨装置具有:贮存上述硬化性组合物之墨槽;与上述墨槽连接且喷出上述硬化性组合物之喷出部;及一端与上述喷出部连接,另一端与上述墨槽部连接,且上述硬化性组合物于内部流过之循环流路部;于上述涂布步骤中,于上述喷墨装置内,使上述硬化性组合物自上述墨槽移动至上述喷出部后,使未自上述喷出部喷出之上述硬化性组合物于上述循环流路部内流过而移动至上述墨槽,藉此一面使上述硬化性组合物循环一面进行涂布;且循环中之上述硬化性组合物之温度为40℃以上且100℃以下。
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地址 |
日本 |