| 发明名称 |
镱制溅镀靶及该靶之制造方法 |
| 摘要 |
镱制溅镀靶之制造方法，其特征在于：预先制造表面之维克氏硬度(Hv)为15以上、40以下之镱靶原材料，藉由机械加工对具有此表面硬度之镱靶原材料之表面进行最后精加工。 |
| 申请公布号 |
TWI525206 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW098103816 |
申请日期 |
2009.02.06 |
| 申请人 |
ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 |
发明人 |
塚本志郎 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01);C22B59/00(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种镱制溅镀靶之制造方法，预先制造表面之维克氏硬度(Hv)为15以上、40以下之镱靶原材料，该镱靶原材料之纯度在3N以上，藉由机械加工对具有此表面硬度之镱靶原材料之表面进行最后精加工。
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| 地址 |
日本 |
