| 摘要 |
대상물(210)을 유지하기 위한 지지 구조체(300)를 포함하는 리소그래피 장치에 대해 기술된다. 대상물은 노광될 기판 또는 패터닝 디바이스일 수 있다. 지지 구조체는 척(321) - 상기 척 상에서 대상물이 지지됨 - , 및 척과 스테이지(230)에 대해 수직한 전단-순응적 세장형 요소들(325)의 어레이를 포함하며, 상기 세장형 요소들의 제 1 단부들은 척의 표면과 접촉하며 상기 세장형 요소들의 제 2 단부들은 스테이지와 접촉하도록 구성된다. 세장형 요소들의 어레이를 이용함으로써, 스테이지와 척 간의 응력의 전달이 실질적으로 균일해져서, 응력으로 인한 척의 변형 동안 척의 표면에 대한 대상물의 미끄러짐을 최소화시킨다. |
