NIOBIUM AND VANADIUM ORGANOMETALLIC PRECURSORS FOR THIN FILM DEPOSITION

摘要

본 발명은 하기 화학식 I, 즉 Cp(R)M(NR)(=NR)의 화합물을 제공한다. <화학식 I>상기 식에서, M은 독립적으로 바나듐 (V) 또는 니오븀 (Nb)으로부터 선택된 금속이고; m ≤ 5; R은 각각 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 히드로카르빌 라디칼로 이루어진 군에서 선택된 유기 리간드이고; R는 각각 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 히드로카르빌 라디칼로 이루어진 군에서 선택된 유기 리간드이고; R은 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지형 히드로카르빌 라디칼로 이루어진 군에서 선택된 유기 리간드이다.