发明名称 电子材料之洗净方法与洗净系统
摘要 明的电子材料洗净系统系包括:药液洗净手段1、湿式洗净手段2、及单片式洗净装置3。药液洗净手段1系包括:机能性药液储存槽6、以及经由浓硫酸电解管线7连接于该机能性药液储存槽6的电解反应装置8。该机能性药液储存槽6系经由机能性药液供应管线10,可将机能性药液W1供应给单片式洗净装置3。湿式洗净手段2系包括:连通于纯水供应管线21与氮气源的氮气供应管线22、以及分别连接于该等纯水供应管线21与氮气供应管线22的内部混合型二流体喷嘴23。从二流体喷嘴23的前端,可喷射出由氮气与超纯水生成的液滴W2。根据该电子材料洗净系统,可缩短电子材料的光阻剥离处理所需要时间,更可利用光阻剥离后的湿式洗净,于短时间内确实地去除光阻残渣。
申请公布号 TWI525684 申请公布日期 2016.03.11
申请号 TW100107285 申请日期 2011.03.04
申请人 栗田工业股份有限公司 发明人 山川晴义;床嶋裕人
分类号 H01L21/306(2006.01) 主分类号 H01L21/306(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项 一种电子材料之洗净方法,其特征在于包括:使由硫酸进行电解所获得的机能性药液,接触到电子材料的药液洗净步骤,其中,上述机能性药液之过硫酸浓度为2~20[g/L(asS2O8)];以及使由气体与液体所生成液滴的喷流,接触到上述电子材料的湿式洗净步骤。
地址 日本