| 发明名称 |
感放射线性树脂组成物、抗蚀图型形成方法、聚合物及化合物 |
| 摘要 |
明系以提供于液浸曝光制程中于曝光时藉由显示高动态接触角而抗蚀被膜表面展现优良排水性，于显像时藉由使动态接触角大幅降低，而赋予显像缺陷之发生受到抑制之抗蚀被膜，并且可缩短动态接触角之变化所需要之时间的感放射线性树脂组成物为目的。本发明为含有[A]具有含有下述式(1)所表示之基之构造单位(I)的含氟聚合物，及[B]感放射线性酸产生物之感放射线性树脂组成物。 |
| 申请公布号 |
TWI525389 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW100117806 |
申请日期 |
2011.05.20 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
大崎仁视;浅野裕介;佐藤光央;永井智树 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F20/18(2006.01);C08F20/22(2006.01);C08F20/24(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种感放射线性树脂组成物，其系含有〔A〕具有下述式(1-2)所表示之构造单位(I-2)的含氟聚合物、及〔B〕感放射线性酸产生物；
式(1-2)中，R为氢原子、氟原子、甲基或氟化甲基，RL1为(m+1)价之连结基，R0为可具有取代基之1价之芳香族烃基，m为1~3之整数，m为2或3时，复数之R0可为相同亦可为相异。
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| 地址 |
日本 |
