| 发明名称 |
多重带电粒子束描绘装置 |
| 摘要 |
带电粒子束描绘装置，其特征为，具备：平台，系载置试料；放出部，放出带电粒子束；孔径构件，形成有复数个开口部，在包含前述复数个开口部全体之开口部形成区域受到前述带电粒子束的照射，前述带电粒子束的一部分分别通过前述复数个开口部，藉此形成多射束；复数个电磁透镜，磁场呈相反方向；及3个以上的静电透镜，在各电磁透镜的磁场中至少各配置1个，其中1个以上兼作为使多射束朝前述试料上一同偏向之偏转器。
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| 申请公布号 |
TWI525400 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW102145583 |
申请日期 |
2013.12.11 |
| 申请人 |
纽富来科技股份有限公司 |
发明人 |
东矢高尙;小笠原宗博 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种多重带电粒子束描绘装置，其特征为，具备：平台，系载置试料；放出部，放出带电粒子束；孔径构件，形成有复数个开口部，在包含前述复数个开口部全体之开口部形成区域受到前述带电粒子束的照射，前述带电粒子束的一部分分别通过前述复数个开口部，藉此形成多射束；复数个电磁透镜，磁场呈相反方向；及3个以上的静电透镜，在各电磁透镜的磁场中至少各配置1个，其中1个以上兼作为使前述多射束朝前述试料上一同偏向之偏转器；前述多射束，藉由主副2段之2段偏向而被偏向，前述3个以上的静电透镜，系兼作为2个主偏转器以作为前述偏转器，更具备配置于前述2个主偏转器之间的副偏转器。
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| 地址 |
日本 |
