蚀刻方法与蚀刻组成物

摘要

明提供一种蚀刻方法。首先，提供基底。接着，进行蚀刻，以在上述基底中形成至少一开口，继而，在开口中形成辅助蚀刻层，以覆盖至少一蚀刻残留物。上述辅助蚀刻层包括载体、介质以及包覆于载体中的蚀刻成分。再来，对该辅助蚀刻层进行处理制程，上述处理制程包括对上述辅助蚀刻层施加能量或使上述辅助蚀刻层暴露于气体下，使得上述辅助蚀刻层中的载体破裂，藉此释放出上述蚀刻成分，并对上述蚀刻残留物进行蚀刻。

主权项

一种蚀刻方法，包括：提供一基底；进行一蚀刻，以在该基底中形成至少一开口；以及进行一辅助蚀刻，以移除该开口中的至少一蚀刻残留物，进行该辅助蚀刻包括：在该开口中形成一辅助蚀刻层，以覆盖该蚀刻残留物，其中该辅助蚀刻层中包括：一介质；一载体，位于该介质中；以及一蚀刻成分，包覆在该载体中；以及对该辅助蚀刻层进行一处理制程，藉此使该蚀刻成分蚀刻该蚀刻残留物，其中该处理制程包括对该辅助蚀刻层施加一能量或使该辅助蚀刻层暴露于一气体下，且其中该载体包括胶囊，该处理制程使得该辅助蚀刻层中的该胶囊破裂，藉此释放出该蚀刻成分。