| 摘要 |
Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt weist der Spiegel eine optische Wirkfläche (10a, 20a), ein Spiegelsubstrat (11, 21) und einen Reflexionsschichtstapel (12, 22) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a, 20a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung auf, wobei der Reflexionsschichtstapel (12, 22) eine alternierende Abfolge aus Absorber-Schichten (14, 24) aus einem ersten Material und Spacer-Schichten (15, 25) aus einem zweiten Material aufweist, und wobei das zweite Material eine Phosphor-Verbindung oder eine Schwefel-Verbindung ist. |
