发明名称 Gehäuse und Verfahren zum Bilden von Gehäusen
摘要 Es werden verschiedene Gehäuse und Verfahren zum Bilden von Gehäusen beschrieben. Gemäß einer Ausführungsform umfasst ein Gehäuse einen Prozessorchip, der zumindest seitlich von einem Verkapselungsmittel verkapselt ist, einen Speicherchip, der zumindest seitlich von dem Verkapselungsmittel verkapselt ist, und eine Umverteilungsstruktur auf dem Verkapselungsmittel. Der Prozessorchip ist durch die Umverteilungsstruktur kommunikativ mit dem Speicherchip verbunden. Gemäß weiteren Ausführungsformen kann der Speicherchip einen Speicher umfassen, der ein Cache-Speicher des Prozessorchips ist, und der Speicherchip kann einen Dynamischen Direktzugriffsspeicher (DRAM) umfassen.
申请公布号 DE102015105981(A1) 申请公布日期 2016.03.10
申请号 DE201510105981 申请日期 2015.04.20
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. 发明人 YEH, DER-CHYANG;YU, CHEN-HUA;SU, AN-JHIH
分类号 H01L25/065;H01L21/60;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 H01L25/065
代理机构 代理人
主权项
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