发明名称 | 用于加热塑料型坯的设备和加热装置 | ||
摘要 | 本发明提供了一种用于加热塑料型坯(10)的设备(1)和加热装置(4),用于加热塑料型坯的设备具有:输送装置(2),输送装置沿着预定的输送路径(P)输送所述塑料型坯(10);以及至少一个加热装置(4),其中,所述加热装置(4)具有至少一个第一辐射源(42)以及至少一个反射器装置(44),所述第一辐射源发射热辐射,所述反射器装置在所述塑料型坯(10)的方向上反射由所述辐射源(42)发射的至少一部分热辐射。根据本发明,反射器装置(44)可以附接至辐射源(42)并且具有支架(442)以及反射元件(444),反射元件在至少一个区域上支承抵靠于支架(442)并适于反射辐射。 | ||
申请公布号 | CN105383046A | 申请公布日期 | 2016.03.09 |
申请号 | CN201510518483.9 | 申请日期 | 2015.08.21 |
申请人 | 克朗斯股份公司 | 发明人 | 阿尔诺·哈纳 |
分类号 | B29C49/68(2006.01)I | 主分类号 | B29C49/68(2006.01)I |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 李静;马强 |
主权项 | 一种用于加热塑料型坯(10)的设备(1),所述设备具有:输送装置(2),所述输送装置沿着预定的输送路径(P)输送所述塑料型坯(10);以及至少一个加热装置(4),其中,所述加热装置(4)具有至少一个第一辐射源(42)以及至少一个反射器装置(44),所述第一辐射源发射热辐射,所述反射器装置在所述塑料型坯(10)的方向上反射由所述第一辐射源(42)发射的至少一部分热辐射,其特征在于,所述反射器装置(44)能附接至所述第一辐射源(42)或能附接至所述第一辐射源(42)的至少一个辐射源座架,并且所述反射器装置具有支架(442)以及反射元件(444),所述反射元件在至少一个区域上支承抵靠于所述支架(442)并且适于反射辐射。 | ||
地址 | 德国新特劳普林 |