一种己二酸结晶器的移动清疤方法

摘要

本发明提供一种己二酸结晶器的移动清疤方法，移动清疤的具体过程为：在清疤开始前，各结晶室的压力为P0，即M个室结晶对应的压力，T0时刻开始移动清疤，在ΔT时间内压力通过压力调节阀由P0匀速上升到P1，此时结晶室内的物料平衡温度上升，然后压力P1保持一段时间，部分室内的溶液达到不饱和状态，晶疤逐渐溶解，晶疤溶解完之后，T1时刻开始向初始操作恢复，初始操作即M室结晶，在ΔT时间内压力由P1匀速下降到P0，T0+ΔT时刻清疤结束。本发明实现了结晶的连续稳定，同时达到节能减排的目的。

主权项

一种己二酸结晶器的移动清疤方法，其特征在于：设结晶器有M个结晶室，整个结晶器的后N个室产生结晶，其中M≥N，前M‑N个室进行溶解清疤；清疤的具体过程为：在清疤开始前，各结晶室的压力为P0，即M个室结晶对应的压力，T0时刻开始移动清疤，在ΔT时间内压力通过压力调节阀由P0匀速上升到P1，此时结晶室内的物料平衡温度上升，然后压力P1保持一段时间，部分室内的溶液达到不饱和状态，晶疤逐渐溶解，晶疤溶解完之后，T1时刻开始向初始操作恢复，初始操作即M室结晶，在ΔT时间内压力由P1匀速下降到P0，T0+ΔT时刻清疤结束。