一种在切削刀片上制备涂层的方法

摘要

一种在切削刀片上制备涂层的方法，涉及一种切削刀片。1）选择切削刀片基体；2）在切削刀片基体上涂覆TiN层；3）涂覆TiC_xN_y层，其中x≥0，y≥0，x+y=1；4）沉积M₁M₂C_xN_yO_z过渡层，其中x≥0，y≥0，z≥0，x+y+z=1，M₁为钛、铝、锆、铪、硼、硅等中的一种，M₂为钛、铝、锆、铪、硼、硅等中的一种；5）沉积α-Al₂O₃层；6）沉积ZrN层；7）在顶部沉积TiN层；8）去除刀片前刀面外部覆盖层。所制备的涂层是用于切削刀片的具有装饰和指示功能的涂层，所述涂层通过CVD方法能够相对简单和低廉地生产。

主权项

一种在切削刀片上制备涂层的方法，其特征在于包括以下步骤：1)选择切削刀片基体；2)在切削刀片基体上涂覆TiN层；所述涂覆TiN层的方法采用CVD方法，所述涂覆TiN层的方法的工艺气体为TiCl₄、H₂和N₂，按质量百分比为TiCl₄ 1％～2％、N₂ 25％～40％、余量为H₂，所述CVD方法的工艺条件为：压力50～150mbar，温度800～1000℃，时间40～80min；3)涂覆TiC_xN_y层，其中x≥0，y≥0，x+y＝1；所述涂覆TiC_xN_y层的方法采用MTCVD方法，所述涂覆TiC_xN_y层的方法的工艺气体为TiCl₄、H₂、N₂和CH₃CN，按质量百分比为TiCl₄ 1％～3％、CH₃CN 0.1％～1％、N₂ 2％～7％、余量为H₂，所述MTCVD方法的工艺条件为：压力100～200mbar、温度800～1000℃、时间100～400min；4)沉积M₁M₂C_xN_yO_z过渡层，其中x≥0，y≥0，z≥0，x+y+z＝1，M₁为钛、铝、锆、铪、硼、硅中的一种，M₂为钛、铝、锆、铪、硼、硅中的一种；5)沉积α‑Al₂O₃层；6)沉积ZrN层；7)在顶部沉积TiN层；8)去除刀片前刀面外部覆盖层。