发明名称 制程水装置
摘要 一种制程水装置,包括:水槽,所述水槽用于承载液体,所述液体用于对半导体制造工艺装置进行热置换;位于水槽内的冷水管道,所述冷水管道部分或全部位于水槽内的液面以下,所述冷水管道用于冷却水槽内的液体;位于所述水槽侧壁的注水口,液体通过所述注水口注入水槽内;固定于所述水槽外壁表面的漏水检测装置,所述漏水检测装置的位置与注水口的位置对应,所述漏水检测装置用于检测所述注水口是否漏水,并在所述注水口漏水达预设量时发出检测信号;控制装置,用于接收所述漏水检测装置发出的检测信号,以停止工艺装置的工作。制程水装置安全性提高。
申请公布号 CN103307847B 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201310204989.3 申请日期 2013.05.28
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 王华钧;解毅;何雅彬;朱义党;胡可绿;郑修锋;忻圣波
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种制程水装置,其特征在于,包括:水槽,所述水槽用于承载液体,所述液体用于对半导体制造工艺装置进行热置换;位于水槽内的冷水管道,所述冷水管道部分或全部位于水槽内的液面以下,所述冷水管道用于冷却水槽内的液体;位于所述水槽侧壁的注水口,液体通过所述注水口注入水槽内;固定于所述水槽外壁表面的漏水检测装置,所述漏水检测装置的位置与注水口的位置对应,所述漏水检测装置用于检测所述注水口是否漏水,并在所述注水口漏水达预设量时发出检测信号;控制装置,用于接收所述漏水检测装置发出的检测信号,以停止工艺装置的工作。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号