发明名称 光刻设备和器件制造方法
摘要 本发明涉及一种光刻设备,包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置,和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器,用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
申请公布号 CN102834777B 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201180018434.9 申请日期 2011.02.18
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 埃尔温·范茨韦特;彼得·德亚格尔;约翰内斯·昂伍李;埃里克·弗瑞特茨
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张启程
主权项 一种设备,包括:光学装置列,配置成在衬底的目标部分上生成图案,所述光学装置列包括:可编程图案形成装置,配置成提供多个辐射束,和投影系统,配置成将所述多个辐射束投影到衬底上,所述投影系统包括多个透镜;致动器,配置成移动光学装置列或光学装置列的一部分,以在衬底的目标部分上扫描所述多个辐射束,其特征在于,所述光学装置列配置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜一次将所述多个辐射束中的至少两个辐射束投影到衬底的目标部分上,其中光学装置列包括移动部分和静止部分,配置成提供所述辐射束的可编程图案形成装置被设置于静止部分,配置成将辐射束投影的投影系统被设置于移动部分,所述同一透镜被安装在所述移动部分上,其中致动器是旋转电机,所述移动部分的移动是旋转移动。
地址 荷兰维德霍温