发明名称 Deposition apparatus
摘要 A method and apparatus for introducing a fluorine-containing flow stream to a deposition process to maintain process by-product volatility and reduce or eliminate by-product formation and/or interference.
申请公布号 EP1560252(B1) 申请公布日期 2016.03.09
申请号 EP20040258095 申请日期 2004.12.23
申请人 EDWARDS VACUUM, LLC 发明人 BAILEY, CHRISTOPHER MARK;HOGLE, RICHARD;PURDON, SIMON;KASMALKAR, REVATI PRADHAN;SULLIVAN, AARON;MA, CE;WANG, QING MIN
分类号 C23C16/44;H01J37/32;C23C16/452;C23C16/455;H01L21/285;H01L21/3065 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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