发明名称 具有至少两镜面的反射镜的制造方法、用于微光刻的投射曝光装置的反射镜及投射曝光装置
摘要 本发明涉及一种用于感光材料的结构化曝光的微光刻的投射曝光装置的反射镜(M)以及一种制造反射镜(M)的方法。根据本发明的反射镜(M)具有基板本体(B)、第一镜面(S)和第二镜面(S’)。该第一镜面(S)形成于该基板本体(B)的第一侧(VS)上。该第二镜面(S′)形成于该基板本体(B)的第二侧(RS)上,该第二侧不同于该基板本体(B)的该第一侧。根据本发明的反射镜(M)尤其可实施成由玻璃陶瓷材料制成的基板本体(B)。
申请公布号 CN102725673B 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201080045368.X 申请日期 2010.07.30
申请人 卡尔蔡司SMT有限责任公司 发明人 J.赫茨勒;R.米勒;W.辛格
分类号 G02B13/14(2006.01)I;G02B17/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B13/14(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 邱军
主权项 一种用于微光刻的投影曝光装置的反射镜,所述微光刻用于感光材料的结构化曝光,其中所述反射镜(M)具有基板本体(B)、第一镜面(S)及第二镜面(S’);所述第一镜面(S)形成于所述基板本体(B)的第一侧(VS)上;所述第二镜面(S’)形成于所述基板本体(B)的第二侧(RS)上,所述第二侧不同于所述基板本体(B)的所述第一侧;以及所述基板本体(B)由玻璃陶瓷材料制成。
地址 德国上科亨