| 发明名称 | 用于涂覆基板表面的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于通过至少第一和第二前体的连续表面反应在基板(1，48)的表面(3)上提供一种或多种涂覆层的方法和设备。该方法包括向基板(1，48)的表面(3)供应来自第一前体喷嘴(2)的第一前体和来自第二前体喷嘴(4)的第二前体，以及使基板(1，48)相对于第一和第二前体喷嘴(2，4)中的至少一个移动。该方法还包括通过供应第一和第二前体并同时使基板(3)相对于第一和第二前体喷嘴(2，4)中的至少一个移动的协作将基板(1，48)的表面(3)的仅一个或多个第一有限子区域(20，21，22)暴露于第一和第二前体。 | ||
| 申请公布号 | CN105392915A | 申请公布日期 | 2016.03.09 |
| 申请号 | CN201480037183.2 | 申请日期 | 2014.06.26 |
| 申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | 塔帕尼·阿萨瑞拉;佩卡·索伊尼宁 |
| 分类号 | C23C16/04(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人 | 李丙林;李楠 |
| 主权项 | 一种用于根据原子层沉积的原理，通过至少第一前体和第二前体的连续表面反应在基板(1，48)的表面(3)上提供一种或多种涂覆层的方法，所述方法包括：‑向所述基板(1，48)的表面(3)供应来自至少一个第一前体喷嘴(2)的所述第一前体和来自至少一个第二前体喷嘴(4)的所述第二前体；和‑使所述基板(1，48)相对于所述第一前体喷嘴(2)和第二前体喷嘴(4)中的至少一个移动，以对所述基板(1，48)的表面(3)进行所述至少第一前体和第二前体的连续表面反应，其特征在于，所述方法包括通过供应所述第一前体和所述第二前体并同时使所述基板(3)相对于所述第一前体喷嘴(2)和第二前体喷嘴(4)中的至少一个移动的协作使所述基板(1，48)的表面(3)的一个或多个第一有限子区域(20，21，22)暴露于所述第一前体和所述第二前体两者以及使所述基板的表面的一个或多个第二有限子区域暴露于仅一种前体或不暴露于前体，以在所述基板(1，48)的表面(3)的所述第一有限子区域(20，21，22)上提供一种或多种涂覆层。 | ||
| 地址 | 芬兰艾斯堡 | ||