发明名称 膜形成用组合物及其膜、以及使用其的有机半导体元件的制造方法
摘要 本发明的膜形成用组合物包含:含有通式(1)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂。(R<sup>1</sup>各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基。R<sup>2</sup>各自独立地为碳数1~15的直链状、碳数3~15的支链状或碳数3~15的环状的含氟烃基,烃基中的氢原子可以被氟原子取代,重复单元中包含至少1个氟原子。)该组合物能够在有机半导体膜上形成膜,在光刻法等中得到有机半导体的精致的图案时,对蚀刻溶剂具有耐性,在有机半导体元件的制造方法中是有用的。<img file="DDA0000910038190000011.GIF" wi="420" he="365" />
申请公布号 CN105393341A 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201480041085.6 申请日期 2014.07.14
申请人 中央硝子株式会社 发明人 照井贵阳;小森谷治彦;小林史人;原由香里;原育成
分类号 H01L21/47(2006.01)I;C08K5/02(2006.01)I;C08K5/06(2006.01)I;C08L27/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I 主分类号 H01L21/47(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种膜形成用组合物,其为用于在有机半导体膜上形成氟树脂膜的膜形成用组合物,其包含:含有通式(1)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂,<img file="FDA0000910038160000011.GIF" wi="421" he="365" />式(1)中,R<sup>1</sup>各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基,R<sup>2</sup>各自独立地为碳数1~15的直链状、碳数3~15的支链状或碳数3~15的环状的含氟烃基,烃基中的氢原子可以被氟原子取代,重复单元中包含至少1个氟原子。
地址 日本山口县