一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法

摘要

一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法，其特征在于步骤为：1）在绝缘基片上镀上一层厚度为100nm-10μm的光滑铝膜；2）将步骤1)中得到的镀有铝膜的基片，浸在草酸电解液中进行预阳极氧化；3）扫描阳极氧化：将步骤2)中经过预阳极氧化的基片，从电解槽中取出清洗去除吸附的草酸电解液；将电解槽的草酸电解液移出，将洗净的基片放回电解槽，然后用蠕动泵将移出的草酸电解液匀速泵回电解槽，保持电解槽中液面匀速上升，当电解液的液面从基片的底部匀速扫过整个预氧化基片后，基片上预氧化步骤中尚未氧化的残余铝层随着电解液的匀速上升，依次完成阳极氧化过程，从而在绝缘基片上获得均匀高质量的原位多孔阳极氧化铝膜层；4）氧化退火。本发明制备工艺简单、制造成本低，可以在各种形貌的绝缘基片上原位镀制大面积多孔阳极氧化铝膜。

主权项

一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）镀铝膜：采用溅射或蒸发方法，在绝缘基片上镀上一层厚度为100nm‑10μm的光滑铝膜；2）铝膜预阳极氧化：将步骤1)中得到的镀有铝膜的基片，浸在一定温度和浓度的草酸电解液中进行阳极氧化，当镀铝基片的铝层在最靠近氧化电解槽阳极的部位变得半透明，停止预阳极氧化；3）扫描阳极氧化：将步骤2)中经过预阳极氧化的基片，从电解槽中取出清洗，洗去基片吸附的草酸电解液；再将电解槽的草酸电解液移出，将洗净的基片放回电解槽，然后用蠕动泵将移出的草酸电解液匀速泵回电解槽，保持电解槽中液面匀速上升，当电解液的液面从基片的底部匀速扫过整个预氧化基片后，基片上预氧化步骤中尚未氧化的残余铝层随着电解液的匀速上升，依次完成阳极氧化过程，从而在绝缘基片上获得均匀高质量的原位多孔阳极氧化铝膜层；4）氧化退火：将步骤3)得到的样品洗干净后晾干，放入电炉中进行退火氧化，即获得在绝缘基片上镀制有原位多孔阳极氧化铝膜的样品。