| 发明名称 |
LOW DENSITY POLISHING PAD |
| 摘要 |
저밀도 폴리싱 패드 및 저밀도 폴리싱 패드를 제조하는 방법을 기술한다. 한 예에서는, 기판을 폴리싱하는 폴리싱 패드가 0.5 g/cc보다 작은 밀도를 가지고 있으며 열경화성 폴리우레탄 물질(220)로 구성된 폴리싱체(222)를 포함하고 있다. 복수의 폐쇄 셀 기공(214, 218)이 열경화성 폴리우레탄 물질(220)에 분산되어 있다. |
| 申请公布号 |
KR20160027075(A) |
申请公布日期 |
2016.03.09 |
| 申请号 |
KR20167002464 |
申请日期 |
2014.07.17 |
| 申请人 |
NEXPLANAR CORPORATION |
发明人 |
HUANG PING;ALLISON WILLIAM C.;FRENTZEL RICHARD;LEFEVRE PAUL ANDRE;KERPRICH ROBERT;SCOTT DIANE |
| 分类号 |
H01L21/304;B24B37/20;B24B37/24;B24D11/00;B24D11/04;H01L21/306;H01L21/461;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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