| 发明名称 |
一种低腐蚀性感光膜清洗液 |
| 摘要 |
本发明一种低腐蚀性感光膜清洗液，提供了一种清洗液，其包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。本发明提供的清洗液感光膜清洗能力强且对半导体晶片图案和基材腐蚀性较低。 |
| 申请公布号 |
CN105388712A |
申请公布日期 |
2016.03.09 |
| 申请号 |
CN201510848566.4 |
申请日期 |
2015.11.28 |
| 申请人 |
苏赵珍 |
发明人 |
不公告发明人 |
| 分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
一种低腐蚀性感光膜清洗液，其特征在于：包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。 |
| 地址 |
266000 山东省青岛市市北区兴隆一路149号丁 |
