发明名称 SiC离子注入机
摘要 1、本外观设计产品的名称:SiC离子注入机。2、本外观设计产品的用途:本外观设计产品主要用于SiC晶片离子注入。3、本外观设计的设计要点:本外观设计的设计要点在于产品的形状。4、最能表明设计要点的图片或者照片:立体图。5、后视面为非常见面,故省略后视图。
申请公布号 CN303612693S 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201530333246.6 申请日期 2015.08.31
申请人 中国电子科技集团公司第四十八研究所 发明人 袁卫华;易文杰;彭立波;舒勇东;孙雪平
分类号 15-99(10) 主分类号 15-99(10)
代理机构 湖南兆弘专利事务所 43008 代理人 周长清;厉田
主权项
地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号