发明名称 一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法和装置
摘要 本发明公开了一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法,包括二分之一波片处于被测件上的第一位置时,将线偏光入射到与被测件滑动配合的二分之一波片内,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第一椭偏度;将二分之一波片移至第二位置,根据与第一椭偏度同样的方法得到第二椭偏度,比较分析第一椭偏度和第二椭偏度,得到被测件的第一位置和第二位置之间的滚转角误差。本发明还公开了一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量装置。
申请公布号 CN103162645B 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201310073479.7 申请日期 2013.03.08
申请人 浙江大学 发明人 匡方;修鹏;刘旭;葛剑虹
分类号 G01B11/26(2006.01)I 主分类号 G01B11/26(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 一种基于椭偏度测量的滚转角误差测量方法,其特征在于,包括以下步骤:1)二分之一波片处于被测件上的第一位置时,线偏光入射到二分之一波片,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第一椭偏度;所述的线偏光与二分之一波片的快轴夹角为0°,所述四分之一波片的快轴与二分之一波片的快轴平行;2)二分之一波片沿被测件滑动至第二位置时,线偏光入射到二分之一波片,透过二分之一波片的线偏光经四分之一波片形成椭偏光,所述椭偏光再照射到旋转的检偏器上,分析检偏器出射光束的光强变化得到第二椭偏度;3)比较分析第一椭偏度和第二椭偏度,得到被测件的第一位置和第二位置之间的滚转角误差。
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