| 发明名称 | 膜形成用组合物及其膜、以及使用其的有机半导体元件的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的膜形成用组合物包含：含有式(1)表示的重复单元和通式(2)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂。(R<sup>1</sup>为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的烃基，烃基中的氢原子的至少1个可以被氟原子或氯原子取代，也可以具有羟基。)该组合物能够在有机半导体膜上形成氟树脂膜，在光刻法等中得到有机半导体的精致的图案时，对蚀刻溶剂具有耐性，在有机半导体元件的制造方法中是有用的。<img file="DDA0000910081240000011.GIF" wi="406" he="598" /> | ||
| 申请公布号 | CN105393342A | 申请公布日期 | 2016.03.09 |
| 申请号 | CN201480041087.5 | 申请日期 | 2014.07.14 |
| 申请人 | 中央硝子株式会社 | 发明人 | 小森谷治彦;照井贵阳;小林史人;原由香里;原育成 |
| 分类号 | H01L21/47(2006.01)I;C08K5/02(2006.01)I;C08K5/06(2006.01)I;C08L27/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/47(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种膜形成用组合物，其为用于在有机半导体膜上形成氟树脂膜的膜形成用组合物，其包含：含有式(1)表示的重复单元和通式(2)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂，<img file="FDA0000910081210000011.GIF" wi="405" he="598" />式(2)中，R<sup>1</sup>为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的烃基，R<sup>1</sup>的烃基中的氢原子的至少1个可以被氟原子或氯原子取代，R<sup>1</sup>中可以具有羟基。 | ||
| 地址 | 日本山口县 | ||