发明名称 |
プラズマ源およびイオン源 |
摘要 |
This invention relates to a plasma source in the form of plasma generator (13) which utilizes an antenna (11) and an RF source (12). The generated plasma flows into a chamber (14) and ions are accelerated out of the chamber (14) by grid (15). A body 16 is located in the volume for creating local losses and thereby reducing local plasma density. |
申请公布号 |
JP5878512(B2) |
申请公布日期 |
2016.03.08 |
申请号 |
JP20130242892 |
申请日期 |
2013.11.25 |
申请人 |
エスピーティーエス テクノロジーズ イーティー リミティド |
发明人 |
プラウドフット,ゲイリー;ジョージ,クリストファー デイビッド;リマ,パウロ エドゥアルド |
分类号 |
H05H1/46;H01J27/16;H05H1/24 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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