发明名称 プラズマ源およびイオン源
摘要 This invention relates to a plasma source in the form of plasma generator (13) which utilizes an antenna (11) and an RF source (12). The generated plasma flows into a chamber (14) and ions are accelerated out of the chamber (14) by grid (15). A body 16 is located in the volume for creating local losses and thereby reducing local plasma density.
申请公布号 JP5878512(B2) 申请公布日期 2016.03.08
申请号 JP20130242892 申请日期 2013.11.25
申请人 エスピーティーエス テクノロジーズ イーティー リミティド 发明人 プラウドフット,ゲイリー;ジョージ,クリストファー デイビッド;リマ,パウロ エドゥアルド
分类号 H05H1/46;H01J27/16;H05H1/24 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
地址