发明名称 MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE AND MULTI CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD
摘要 본 발명의 일 태양의 멀티 하전 입자 빔 묘화 장치는, 묘화용의 복수의 제1 개구부와 복수의 제1 개구부의 주위에 비묘화용의 복수의 제2 개구부가 형성되고, 복수의 제1 및 제2 개구부 전체가 포함되는 영역에 하전 입자 빔의 조사를 받고, 복수의 제1 개구부를 하전 입자 빔의 일부가 각각 통과함으로써 묘화용 멀티 빔을 형성하고, 또한, 복수의 제2 개구부를 하전 입자 빔의 일부가 각각 통과함으로써 측정용 멀티 빔을 형성하는 빔 성형 부재와, 크로스오버를 형성하는 높이 위치 부근에 배치된 블랭킹 애퍼쳐 부재 상에, 또는, 블랭킹 애퍼쳐 부재와 블랭킹 플레이트와의 사이에, 배치된 복수의 마크 부재와, 복수의 마크 부재를 이용하여, 측정용 멀티 빔의 위치를 측정하는 측정부와, 측정된 측정용 멀티 빔의 위치의 위치 이탈량을 보정하도록, 복수의 블랭커 중 묘화용 멀티 빔의 블랭킹 편향을 행하는 각 블랭커에 인가하는 빔 ON 상태로 하기 위한 전압을 보정하는 보정부를 구비한 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR101601128(B1) 申请公布日期 2016.03.08
申请号 KR20140097285 申请日期 2014.07.30
申请人 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 发明人 가미쿠보 타카시
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址