发明名称 ポリマーナノマスクを使用した表面ナノ複製
摘要 ナノピラー基体表面を製造する方法は、基体表面に両親媒性ブロックコポリマーおよび親水性ホモポリマーを含有するポリマー溶液を塗布する工程を有してなる。このポリマー溶液中の両親媒性ブロックコポリマーおよび親水性ホモポリマーは基体表面で自己組織化して、自己組織化ポリマー層を形成し、この層は、基体表面に隣接した疎水性領域および自己組織化ポリマー層中に延在する親水性領域を有する。この親水性領域の少なくとも一部分を除去して、自己組織化ポリマー層の露出表面に複数の細孔を形成することができる。複数の細孔を通してエッチングして貫通孔を形成するためのマスクとして、保護層をその露出表面に堆積させることができる。ナノピラー形成材料を、その貫通孔を通じて基体表面上に堆積させることができる。次いで、自己組織化ポリマー層の残りの部分を除去して、ナノピラー基体表面を露出することができる。
申请公布号 JP2016507158(A) 申请公布日期 2016.03.07
申请号 JP20150555205 申请日期 2014.01.21
申请人 コーニング インコーポレイテッド 发明人 ケサダ,マーク アレハンドロ;ワン,ジエングオ;ヂャン,イン
分类号 H01L21/027;C08J9/00 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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