发明名称 Apparatus depositing thin film and method of depositing thin film using ozone plasma
摘要 본 발명은 오존 플라즈마를 발생시켜 이를 박막 증착에 이용할 수 있는 박막 증착장치 및 오존 플라즈마를 이용하여 박막을 증착할 수 있는 박막 증착방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막 증착장치는 내부에 수용부가 형성되어 있는 반응기와, 반응기 내부에 설치되며 기판이 안착되는 기판 지지대와, 기판 지지대의 상부에 설치되며, 반응기 외부에 설치된 소스가스 공급라인 및 반응가스 공급라인을 통해 박막 증착을 위한 소스가스 및 오존(O)을 포함하는 반응가스가 각각 내부로 유입되도록 하는 소스가스 유입구와 반응가스 유입구가 형성되어 있고, 내부로 유입된 소스가스와 반응가스가 기판 지지대를 향해 분사되도록 하는 소스가스 분사구와 반응가스 분사구가 형성되어 있는 가스 분사체와, 기판 상에 오존 플라즈마를 공급하기 위한 오존 플라즈마 공급수단을 구비한다.
申请公布号 KR101600552(B1) 申请公布日期 2016.03.07
申请号 KR20100000699 申请日期 2010.01.06
申请人 주식회사 원익아이피에스 发明人 이상진;류동호;한창희
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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