发明名称 Verfahren zum Abstützen eines wachsenden Einkristalls während des Kristallisierens des Einkristalls gemäß dem FZ-Verfahren
摘要 Verfahren zum Abstützen eines wachsenden Einkristalls im Bereich eines konusförmigen Abschnitts des Einkristalls durch einen Stützkörper während des Kristallisierens des Einkristalls gemäß dem FZ-Verfahren. Das Verfahren umfasst das Pressen des Stützkörpers gegen den konusförmigen Abschnitt des wachsenden Einkristalls bei einer Temperatur, bei der ein erstes Material des Stützkörpers weich wird, und das fortgesetzte Pressen des Stützkörpers gegen den konusförmigen Abschnitt des wachsenden Einkristalls, bis das erste Material und ein zweites Material des Stützkörpers, das bei der genannten Temperatur fest bleibt, den konusförmigen Abschnitt des wachsenden Einkristalls berühren.
申请公布号 DE102014217605(A1) 申请公布日期 2016.03.03
申请号 DE201410217605 申请日期 2014.09.03
申请人 SILTRONIC AG 发明人 MEISTERERNST, GÖTZ;BERGER, JOSEF;MÜMMLER, FRANK;NIEDERER, KURT;TERÖRDE, HELMUT;ZITZELSBERGER, SIMON
分类号 C30B13/00 主分类号 C30B13/00
代理机构 代理人
主权项
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